80 Plus

Das Plasmasystem 80 Plus wurde für den Halbleitermarkt entwickelt und ist im manuellen wie auch im automatischen Modus sehr einfach zu bedienen.

Die Anlage kann mit oder ohne Be- und Entladestationen geliefert werden. Des Weiteren können die Stationen unterschiedlich konfiguriert werden. Ohne Stationen ist es möglich sie in eine Produktionslinie zu integrieren.

Die Software ist sehr übersichtlich und entspricht den aktuellen Standards der Halbleiterindustrie.

Aufgrund der hohen Effizienz der 80 Plus dauert eine Plasmabehandlung nur Sekunden. Die primären Einsatzgebiete sind das Aktivieren (z. Bsp. vor dem Vergießen) und das Reinigen (z. Bsp. vor dem Drahtbonden) von Oberflächen.

 

 

Das Plasmasystem 80 Plus ist mit 2 Elektrodenkonfigurationen verfügbar:

 

Konfiguration "IoN":

 

Eine elektromagnetische Strahlung mit einer RF-Frequenz von 13,56 MHz wird mittels Elektroden in die Kammer eingespeist um einen Oberflächenbeschuss durch beschleunigte Ionen zu erreichen. Neben diesem physikalischen Effekt ist auch ein chemischer Effekt vorhanden, dieser ist jedoch geringer als bei Verwendung der Mikrowellenfrequenz.

 

oder:

 

Konfiguration "GIGA":

 

Ist das Plasmagerät mit einem Mikrowellengenerator ausgestattet, wird eine Frequenz von 2,45 GHz verwendet. Es befinden sich keine Elektroden in der Kammer, die Mikrowellen werden außerhalb der Vakuumkammer erzeugt und anschließend über Antennen oder Hohlleiter eingespeist. Ein Plasma mit dieser Konfiguration arbeitet ausschließlich chemisch.