F&E Systeme

 

Die R&D-Systeme sind kleine, einfach zu benutzende, manuell gesteuerte Plasma-Reaktoren. Erhältlich mit verschiedenen Generatoren und Kammergrößen ist es ideal für Forschung und Entwicklung an Universitäten und Laboren. Je nach System und Ausstattung können diese Plasmageräte zur Oberflächenaktivierung, Oberflächenreinigung, Oberflächenmodifizierung, zum Oberflächenätzen und Veraschen von Fotolack eingesetzt werden.

 

Das Plasmasystem Radical ist ein günstiges Plasmagerät mit einem Kammervolumen von 3 Litern. Es hat einen 100 kHz Generator welcher ohne Tuning auskommt. Die einstellbaren Parameter beinhalten Zeit, Druck und Gasflüsse. Die Vakuumkammer ist zylindrisch und aus einer speziellen Aluminiumlegierung welche auch in der Luft- und Raumfahrt verwendet wird. Die Abmessungen sind ø127 mm, Tiefe 203 mm.

 

Das Plasmasystem IoN 3 hingegen besitzt eine quadratische Vakuumkammer aus eloxiertem Aluminium. Es ist entweder erhältlich mit 100 kHz oder mit 13,56 MHz und automatischem Tuning.  Einstellbare Parameter sind Zeit, Druck, Leistung und Gasfluss. Das IoN 3 MHz Plasmasystem hat in der Grundkonfiguration 2 Gasflussregler an Bord und kann mit Druckluft, Sauerstoff (O2), Argon (Ar) und Tetrafluormethan (CF4) betrieben werden. Die Abmessungen der Kammer sind 125 mm x 125 mm x 175 mm (HxBxT).

 

Das Plasmasystem IoN 7 ist ebenfalls mit einer eloxierten, quadratischen Plasmakammer ausgestattet. Das Plasma wird mit 13,56 MHz gezündet, dabei ist die Leistung zwischen 10 bis 300 Watt einstellbar. Es können bis zu 3 Gasflussregler installiert werden. Wie der Name IoN 7 vermuten lässt beträgt das Kammervolumen etwa 7 Liter, die Dimensionen sind 254 mm x 254 mm x 101 mm (HxBxT). Zeit, Druck, Leistung und Gasfluss sind regelbar.