GIGAbatch 360/380M

Die Plasma Systeme GIGAbatch 360M und 380M sind bereits für die Anforderungen kleiner Produktionen mit geringen Anforderungen ausgelegt. Die Versionen 360 haben eine Prozesskammer mit 245mm im Durchmesser und können bis zu 50 Wafer mit 150mm Durchmesser aufnehmen. Bei den Systemen 380 hat die Kammer einen Innendurchmesser von 300mm und hat somit Platz für 25 Wafer mit 200mm Durchmesser.

 

Das Grundgerät ist als Standgerät mit lackierten Verkleidungen, Stellfüßen und Transportrollen ausgelegt. Es verfügt bereits über einen Generator mit 1000W Leistung, zwei Gaskanäle mit MFC, eine Temperaturüberwachung für die Wafer und ein Endpunkterkennungssystem. Darüber hinaus ist eine Aufnahmeeinrichtung für die Wafer bzw. Substrate inbegriffen, die innen an der Kammertür montiert ist und nach den jeweiligen Kundenanforderungen ausgelegt wird.

 

Dazu gibt es eine umfangreiche Liste von zusätzlichen Optionen wie eine aktive Regeleinrichtung für den Prozessdruck(DSC), einen Faradaykäfig, zwei weitere Gaskanäle, Beladeeinrichtungen für verschiedene Substrat- oder Wafergrößen, eine Prozesskammer aus Keramik oder spezielle Dichtungen für den Betrieb mit fluorhaltigem Prozessgas.