Batch Systeme

Unsere Plasmasysteme für den Batch Prozess (es werden eine größere Anzahl von Substraten in einem oder mehreren Trägern in die Kammer geladen) folgen alle dem gleichen Konzept mit direkter Einkopplung der hochfrequenten Anregung von der atmosphärischen Seite in die Vakuumkammer. Der Gaseinlass befindet sich auf der einen Seite der Kammer und die Vakuumabsaugung gegenüber auf der anderen Seite. Durch diese Kammergeometrie erreicht man besonders gute Gleichmäßigkeit des Prozessergebnisses. Die Geometrie der Kammer sowie die Art der Anregung mit Mikrowelle oder MHz sind der jeweiligen Anwendung angepasst.

 

Das Steuerungssystem ist modular aufgebaut und nutzt einen Prozessor der jeweils neuesten Generation, eine Linux-basierte Plattform als Betriebssystem sowie eine grafische Benutzeroberfläche (GUI). Hiermit lassen sich die Prozesse sowohl manuell als auch vollautomatisch steuern. Die Prozessgase werden über MFC geregelt. Alle Parameter werden in ein Rezept geschrieben und in der Datenbank abgespeichert. Die aktuellen Werte für Druck, Gasfluss, Leistung usw. werden während des Prozesses kontinuierlich angezeigt und bei Abweichungen vom Sollwert wird ein entsprechender Alarm generiert.